清洗器-实验室常用设备-仪器设备-生物在线

XF-120超声波处理器

标称频率:20KHZ标称功率:120W整机尺寸:150×150×75mm+180mm(超声探头长度)配变幅杆:6mm或8mm使用电源:220V/50HZ工作方式:全程数字化设置程序控制,连续工作

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上海知信单频超声波清洗机

上海知信单频超声波清洗机ZX-3200DE    用途脱气系列数码超声波清洗机主要运用于电子、机械、光学、珠宝、样品前处理、破碎、乳化、分散、助溶、提取萃取、消泡脱气、纳米制备等,同时适合高精密零件的高洁净度清洗工况应用。

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JL-60DTH超声波清洗器

标标称频率:40KHZ称功率:60W加热功率:50W时间控制:0-90min温度控制:0-80℃内槽尺寸:150×140×100mm标称容量:2L

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洺澈实验室玻璃器皿自动清洗消毒机/洗瓶机

洺澈实验室玻璃器皿自动清洗消毒机/洗瓶机。当我们对实验数据准确度的要求变得越来越高时,玻璃器皿的清洗和烘干就变得非常重要。清洗过程必须保证器皿在下次使用时,不受上次使用的影响。洺澈实验室玻璃器皿自动清洗消毒机/洗瓶机清洗不仅可以使科研人员从劳动密集型的

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等离子清洗机

等离子清洗机VP-R3真空腔体石英玻璃材质,频率13.56MHz,能对材料起到清洁、刻蚀、活化、改性的作用,满功率运行30分钟,腔体温度不高于32℃,不损伤样品,适用于微流控芯片PDMS键合、ITO导电玻璃、石墨烯、纤维、单晶硅片、PET、二氧化硅等几乎所有材料的PLASMA处理。

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圆筒型台式反应离子刻蚀(RIE)系统(蚀刻、等离子混合清洗、等离子清除浮渣、刻胶、去胶 、表面处理 、Etching、故障分析应用 、材料改性 )

台式反应离子刻蚀系统,台式反应离子刻蚀(RIE)系统,圆筒型腔体台式反应离子刻蚀(RIE)系统VHF系列圆筒型腔体台式反应离子刻蚀(RIE)系统定义了一个新的台式反应离子刻蚀(RIE)系统圆筒型等离子处理方式。

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