聚焦式超声波发生器
LG2000系列超声波发生器是一款大功率、高性能的产品;可适应2000W以下,15KHz和20KHz的变幅杆型换能器系统要求(频率不可调)。 该发生器具有功率可调、频率自动跟踪等多项功能,可以使换能器工作状态良好,是大功率、高功率密度清洗的不二选择。
医用快速清洗消毒机
使用范围医院手术器械、剪刀、止血钳和其他金属器械;各种麻醉器械、呼吸管、麻醉管、各种导管等;各种器皿、换药碗、试管、烧杯、各种盘子、圆桶、测压器等;是医院手术室、供应室及消毒中心的必备设备。
台式数控超声波清洗器
产品型号 SD5200H超声功率(W) 200加热功率(W) 300容量(L) 10槽内尺寸(mm)L×W×H 300×240×150外形尺寸(mm)L×W×H 360×270×310超声频率(KHz)40选配 降音盖、排水网架、降音盖、排水价格:5400 5600
舒美牌KQ5200V台式超声波清洗器
超声发生源与清洗槽为一体化。主要适用于商业、轻工、大专院校、科研单位的小批量清洗、脱气、消泡、乳化、混匀、置换、提取、粉料粉碎及细胞粉碎。
XF-120超声波处理器
标称频率:20KHZ标称功率:120W整机尺寸:150×150×75mm+180mm(超声探头长度)配变幅杆:6mm或8mm使用电源:220V/50HZ工作方式:全程数字化设置程序控制,连续工作
Q1实验室器皿清洗机/自动洗瓶机
通过电脑控制高压多方向动态喷淋水流的温度、压力及冲洗时间、次数等,在相应的洗涤剂/消毒剂等作用下,将实验器皿,实验器械等欲清洗的物品表面及内部污渍冲洗干净,并达到相应的消毒效果,广泛用于各类型生物及化学等实验室。
组合式卧式空调机组
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反应离子刻蚀/沉积等离子处理系统(反应离子刻蚀(RIE)及等离子体增强化学气相沉积 (PEVCD)系统、 薄膜沉积、刻蚀、表面处理、材料改性、金属刻蚀、粘合促进
BM8-II是一款定义反应离子刻蚀(RIE)及等离子体增强化学气相沉积 (PEVCD)等离子处理新概念的等离子处理系统。BM8-II反应离子刻蚀(RIE)/沉积(PEVCD)等离子处理系统基于模块化设计制造,采用一款通用的真空处理舱及机柜。
圆筒型台式反应离子刻蚀(RIE)系统(蚀刻、等离子混合清洗、等离子清除浮渣、刻胶、去胶 、表面处理 、Etching、故障分析应用 、材料改性 )
台式反应离子刻蚀系统,台式反应离子刻蚀(RIE)系统,圆筒型腔体台式反应离子刻蚀(RIE)系统VHF系列圆筒型腔体台式反应离子刻蚀(RIE)系统定义了一个新的台式反应离子刻蚀(RIE)系统圆筒型等离子处理方式。