清洗器-实验室常用设备-仪器设备-生物在线

超声波清洗器

附设溶液加热自动装置,温控范围:室温-70℃。 附设超声清洗定时装置,1-60分钟内任意设定。 超声波频率有四种,可任选一种。订货如无注明频率均为40KHz

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台式数控超声波清洗机,Q5200DB超声波清洗机

产品名称:Q5200DB台式数控超声波清洗机产品型号:Q5200DB超声波清洗机主要技术指标:仪器尺寸:320*264*340(长宽高mm)

商家询价 上海巴玖实业有限公司

高温酸清洗系统

用途:清洗各种玻璃、石英、PFA、PTFE、TFM等材质的小瓶、器皿及ICP/MS的配件。

商家询价 天津成星号科技发展有限公司

供应小型等离子清洗机 台式蚀刻机系统

台式紧凑型等离子清洗机、小型等离子清洗机、微创伤纳米级等离子清洗机、等离子清洗器

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台式数控超声波清洗器

产品型号 SD2800H超声功率(W) 600加热功率(W) 600容量(L) 22.5槽内尺寸(mm)L×W×H 500×300×150外形尺寸(mm)L×W×H 570×330×330超声频率(KHz) 40选配 降音盖、排水 网架、降音盖、排水价格(元) 10500(元) 11000(元)

商家询价 北京鸿跃科技有限公司

超声波清洗机

DTD系列功率可调加热型超声波清洗机主要用于常规清洗、萃取、乳化、混匀、脱气、分散等领域,其优点是大液晶屏幕显示,室温-80℃的温度设定范围,具有断电工作参数记忆等功能。广泛应用于验室 、机电行业、珠宝首饰 、医疗牙科 、光学等领域。

商家询价 宁波新芝生物科技股份有限公司

反应离子刻蚀/沉积等离子处理系统(反应离子刻蚀(RIE)及等离子体增强化学气相沉积 (PEVCD)系统、 薄膜沉积、刻蚀、表面处理、材料改性、金属刻蚀、粘合促进

BM8-II是一款定义反应离子刻蚀(RIE)及等离子体增强化学气相沉积 (PEVCD)等离子处理新概念的等离子处理系统。BM8-II反应离子刻蚀(RIE)/沉积(PEVCD)等离子处理系统基于模块化设计制造,采用一款通用的真空处理舱及机柜。

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舒美牌KQ-500台式超声波清洗器

超声发生源与清洗槽为一体化。主要适用于商业、轻工、大专院校、科研单位的小批量清洗、脱气、消泡、乳化、混匀、置换、提取、粉料粉碎及细胞粉碎。

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