等离子清洗机
等离子清洗机VP-R3真空腔体石英玻璃材质,频率13.56MHz,能对材料起到清洁、刻蚀、活化、改性的作用,满功率运行30分钟,腔体温度不高于32℃,不损伤样品,适用于微流控芯片PDMS键合、ITO导电玻璃、石墨烯、纤维、单晶硅片、PET、二氧化硅等几乎所有材料的PLASMA处理。
JL-60DTH超声波清洗器
标标称频率:40KHZ称功率:60W加热功率:50W时间控制:0-90min温度控制:0-80℃内槽尺寸:150×140×100mm标称容量:2L
圆筒型台式反应离子刻蚀(RIE)系统(蚀刻、等离子混合清洗、等离子清除浮渣、刻胶、去胶 、表面处理 、Etching、故障分析应用 、材料改性 )
台式反应离子刻蚀系统,台式反应离子刻蚀(RIE)系统,圆筒型腔体台式反应离子刻蚀(RIE)系统VHF系列圆筒型腔体台式反应离子刻蚀(RIE)系统定义了一个新的台式反应离子刻蚀(RIE)系统圆筒型等离子处理方式。
JK双频数控超声波清洗器
双频恒温数控超声波清洗器采用了加热与制冷二种设备自动转换,超声频率自动转换,达到了超声液温精确度及超声连续工作不升温,工作条件上不同性质的污垢得到全方
组合式卧式空调机组
产品详细信息请浏览本公司网站.www.wjwfjh.com 电话:0512-63204563,传真:0512-63201433 竭诚为客户提供优质服务!
语瓶全自动洗瓶机Q720
实验室洗瓶机又称全自动玻璃清洗消毒机、全自动玻璃器皿清洗仪。主要由清洗系统、漂洗系统、干燥系统及控制系统等部分构成,可接自来水、纯水,对实验室玻璃器皿进行清洗消毒。
反应离子刻蚀/沉积等离子处理系统(反应离子刻蚀(RIE)及等离子体增强化学气相沉积 (PEVCD)系统、 薄膜沉积、刻蚀、表面处理、材料改性、金属刻蚀、粘合促进
BM8-II是一款定义反应离子刻蚀(RIE)及等离子体增强化学气相沉积 (PEVCD)等离子处理新概念的等离子处理系统。BM8-II反应离子刻蚀(RIE)/沉积(PEVCD)等离子处理系统基于模块化设计制造,采用一款通用的真空处理舱及机柜。