反应离子刻蚀/沉积等离子处理系统(反应离子刻蚀(RIE)及等离子体增强化学气相沉积 (PEVCD)系统、 薄膜沉积、刻蚀、表面处理、材料改性、金属刻蚀、粘合促进
BM8-II是一款定义反应离子刻蚀(RIE)及等离子体增强化学气相沉积 (PEVCD)等离子处理新概念的等离子处理系统。BM8-II反应离子刻蚀(RIE)/沉积(PEVCD)等离子处理系统基于模块化设计制造,采用一款通用的真空处理舱及机柜。
舒美牌KQ-500台式超声波清洗器
超声发生源与清洗槽为一体化。主要适用于商业、轻工、大专院校、科研单位的小批量清洗、脱气、消泡、乳化、混匀、置换、提取、粉料粉碎及细胞粉碎。
68KHz高频率超声波电源
频率:从20KHZ—400KHZ之内可选,功率:从600W---6000W可选(一个电箱),6000W--20000W需定做。 .性能特点: 1.输入电压:180—265V AC 2.转换效率:93(min). 3.工作温度:-20摄
聚焦式超声波发生器
LG2000系列超声波发生器是一款大功率、高性能的产品;可适应2000W以下,15KHz和20KHz的变幅杆型换能器系统要求(频率不可调)。 该发生器具有功率可调、频率自动跟踪等多项功能,可以使换能器工作状态良好,是大功率、高功率密度清洗的不二选择。
JK-600DB超声清洗器
JK系列超声波清洗器具有清洗效果好、速度快、低噪音、环保等优点。主要适用于工矿企业、大专院校、科研单位、电子行业、商业、医疗行业等清洗、脱气、混匀、乳化、置换、消泡及细胞粉碎。
PE-50实验室等离子表面处理机
等离子表面处理机是一种非破坏性的表面处理设备,它是利用能量转换技术,在一定真空负压的状态下,以电能将气体转化为活性极高的气体等离子体,它能轻柔冲刷固体样品表面,引起分子结构的改变,从而达到对样品表面有机污染物进行超清洗,在极短时间内有机污染物就被外接
圆筒型台式反应离子刻蚀(RIE)系统(蚀刻、等离子混合清洗、等离子清除浮渣、刻胶、去胶 、表面处理 、Etching、故障分析应用 、材料改性 )
台式反应离子刻蚀系统,台式反应离子刻蚀(RIE)系统,圆筒型腔体台式反应离子刻蚀(RIE)系统VHF系列圆筒型腔体台式反应离子刻蚀(RIE)系统定义了一个新的台式反应离子刻蚀(RIE)系统圆筒型等离子处理方式。