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台式数控超声波清洗器

产品型号 SD2800H超声功率(W) 600加热功率(W) 600容量(L) 22.5槽内尺寸(mm)L×W×H 500×300×150外形尺寸(mm)L×W×H 570×330×330超声频率(KHz) 40选配 降音盖、排水 网架、降音盖、排水价格(元) 10500(元) 11000(元)

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圆筒型台式反应离子刻蚀(RIE)系统(蚀刻、等离子混合清洗、等离子清除浮渣、刻胶、去胶 、表面处理 、Etching、故障分析应用 、材料改性 )

台式反应离子刻蚀系统,台式反应离子刻蚀(RIE)系统,圆筒型腔体台式反应离子刻蚀(RIE)系统VHF系列圆筒型腔体台式反应离子刻蚀(RIE)系统定义了一个新的台式反应离子刻蚀(RIE)系统圆筒型等离子处理方式。

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超声波清洗器

时间功能(Min):1~60 温度功能(℃):0~80 排水功能:有 网架:有 降音盖:有 外壳:不锈钢

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高温酸清洗系统

用途:清洗各种玻璃、石英、PFA、PTFE、TFM等材质的小瓶、器皿及ICP/MS的配件。

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反应离子刻蚀/沉积等离子处理系统(反应离子刻蚀(RIE)及等离子体增强化学气相沉积 (PEVCD)系统、 薄膜沉积、刻蚀、表面处理、材料改性、金属刻蚀、粘合促进

BM8-II是一款定义反应离子刻蚀(RIE)及等离子体增强化学气相沉积 (PEVCD)等离子处理新概念的等离子处理系统。BM8-II反应离子刻蚀(RIE)/沉积(PEVCD)等离子处理系统基于模块化设计制造,采用一款通用的真空处理舱及机柜。

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舒美牌KQ3200V台式超声波清洗器

超声发生源与清洗槽为一体化。主要适用于商业、轻工、大专院校、科研单位的小批量清洗、脱气、消泡、乳化、混匀、置换、提取、粉料粉碎及细胞粉碎。

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等离子清洗机

等离子清洗机VP-R3真空腔体石英玻璃材质,频率13.56MHz,能对材料起到清洁、刻蚀、活化、改性的作用,满功率运行30分钟,腔体温度不高于32℃,不损伤样品,适用于微流控芯片PDMS键合、ITO导电玻璃、石墨烯、纤维、单晶硅片、PET、二氧化硅等几乎所有材料的PLASMA处理。

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玻璃器皿清洗机

本机主要适用于高校实验室、药厂、医院口腔科、科研机构对玻璃、塑料、橡胶等物品的清洗。包括培养皿、玻片、移液管、消解罐、色谱瓶、试管、三角瓶、锥形瓶、烧杯、烧瓶、量筒、容量瓶、西林瓶、蓝盖瓶、漏斗、搅拌器、旋阀等

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供应小型等离子清洗机 台式蚀刻机系统

台式紧凑型等离子清洗机、小型等离子清洗机、微创伤纳米级等离子清洗机、等离子清洗器

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